Öz
Bu çalışmada, Metal organik kimyasal buhar biriktirme(MOCVD) metoduyla safir (Al2O3) üzerine büyütülen dereceli ve derecesiz InGaN/GaN MQW’lerin dielektrik özellikleri incelendi. Dereceli tabakanın MQW’nin karakteristikleri üzerine etkisini fark edebilmek için bazı GaN tabakalar In aşılanarak büyütülmüştür. Filmlerin dielektrik fonksiyonu Swanepoel zarf metodu ile belirlenmiştir. Filmlerin gerçel ve imajiner dielektrik katsayıları, kırılma indisi ve soğurma katsayıları kullanılarak hesaplanmıştır. Dereceli ve derecesiz örnekler için kırılma indisi değerlerindeki farklılıklar tartışılmıştır. Dielektrik fonksiyonunun belirlenmesi sırasında, her iki numune için kompleks ve imajiner dielektrik sabitlerinin foton enerjisine göre değişimleri gösterilmiştir